光学邻近效应校正方法、装置、电子设备及存储介质

本申请是关于一种光学邻近效应校正方法、装置、电子设备及存储介质。校正方法包括：获取原始掩模版，所述原始掩模版是基于目标晶圆图像设计的掩模版图形；将所述原始掩模版输入至预设的概率扩散模型，得到校正后的目标掩模版；其中，所述预设的概率扩散模型是基于不同晶圆图像的原始掩模版和所述原始掩模版对应的校正后掩模版进行训练得到的；将所述目标掩模版输出，以基于所述目标掩模版得到目标晶圆图像。本申请通过将概率扩散模型引入校正方法中，实现端到端地学习原始掩模版与校正后掩模版之间的复杂映射关系，缩短了校正处理时间，提升了校正效率和准确性，提高了半导体制造的吞吐量，降低计算成本。